馬曼曼：18913180175

IC行業清洗純水，OLED清洗超純水太陽能光伏用超純水設備，光電行業用超純水設備，半導體行業用超純水設備，單晶硅/多晶硅/硅材料/太陽能電池用工業超純水設備，LCD液晶顯示器純水設備，LED光學超純水設備，玻璃鍍膜配套超高純水設備，光學鏡片清洗用超純水設備，薄膜電池多晶鑄錠超純水設備, EDI電去離子，各行業用超純水處理設備。

特點：在設備設計上，采用成熟、可靠、**、自動化程度高的兩級RO＋EDI＋精混床除鹽水處理工藝，全膜法處理工藝：UF+二級RO+EDI+拋光混床。確保處理后出水電阻率達到18 MΩ.CM以上。**產品質量的需求！

  參數：污染物去除率脫鹽率：99.8% 有機物去除率：>150MW 細菌隔除率：>99% 熱原去除率：>99% 顆粒去除率：>99% 進水要求：污染指數(SDI)：<5 余氯：<0.1mg/L PH：5-8